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光化學氧化技術處理(lǐ)印染廢水
時間:2017-05-12瀏(liú)覽量:912
  光化學(xué)氧化技術(shù)屬於高級氧化工藝,是新興的現(xiàn)代水處理技術,該技術通過氧化劑(O3、H2O2等)在紫外(或可見)光的激(jī)發和(hé)催化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等(děng))的催化作用下,產生(shēng)具(jù)有(yǒu)強氧化性的羥(qiǎng)基自由基,羥基自由(yóu)基的標準氧化電位達2.8eV,是除元素氟以外最強的氧化劑,能無(wú)選擇地將絕大(dà)多數有機物徹底氧(yǎng)化成CO2、H2O和其它(tā)無機物,反應速度快(kuài),耗時短,反應條(tiáo)件溫和(hé)(常溫、常壓),操作條件易於控製,無二(èr)次汙染。印染廢水中染料的顏色來源於染料分子的共扼體係—含不飽和基(jī)團-N=N-、-N=O等的(de)發色體,光化學(xué)氧化產生的羥基自由基能夠(gòu)有效打破共扼體係結構,使之(zhī)變成無色的(de)有機分子,並進一步礦化為H2O、CO2和其他無機物質。光化學氧化工藝(yì)上的特點和染料的分子結構特征決定了光化學氧化技術在印染廢水處理方麵具有其他工(gōng)藝(yì)所無可比擬的優勢。
新農村一體化汙水處(chù)理設備 小編整理發布
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